Ingénieur·e de recherche scientifique en nanophotonique et électronique haute fréquence

À propos du poste

Vous intégrerez une équipe dynamique dans le cadre d’un programme de prématuration du CNRS visant à développer une technologie de rupture à l’interface de la nanophotonique et de l’électronique haute fréquence. L’objectif est de passer d’une preuve de concept théorique à un prototype industriel, avec la perspective de créer une future start‑up Deeptech.

Missions principales

• Concevoir et mettre en œuvre des protocoles de fabrication hybrides combinant échelles macroscopiques et nanométriques.
• Assurer la maîtrise des équipements de lithographie électronique (EBL) pour des motifs < 100 nm.
• Utiliser la lithographie optique (UV/Laser) pour l’intégration des structures et des contacts électriques.
• Exploiter le FIB pour le prototypage rapide ou la correction de structures.
• Gérer les étapes de dépôt de métaux et de diélectriques ainsi que les procédés de gravure.
• Réaliser les inspections structurelles (MEB, AFM) et participer à la caractérisation fonctionnelle.
• Contribuer à la stratégie de propriété intellectuelle et à la définition du produit minimum viable (MVP) de la future start‑up.

Profil recherché

• Formation d’ingénieur ou de recherche en physique, nanotechnologie, photonique ou électronique.
• Expérience pratique en nanofabrication et en utilisation d’équipements de lithographie.
• Capacité à travailler de façon autonome sous la responsabilité du porteur de projet.

Compétences requises

• Lithographie électronique (EBL) et optique (UV/Laser).
• Focused Ion Beam (FIB).
• Dépôt de métaux et de diélectriques, gravure.
• Microscopie électronique à balayage (MEB) et microscopie à force atomique (AFM).
• Nanofabrication multi‑échelle et caractérisation fonctionnelle.